SK하이닉스의 반도체 국가 핵심기술과 삼성전자 계열사의 첨단 기술을 중국 경쟁업체에 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 협력업체 부사장이 1심에서 징역형을 선고받았다.
서울중앙지법 형사합의25-3부(부장 지귀연)는 13일 산업기술보호법 위반 등 혐의로 기소된 SK하이닉스 협력업체 부사장 A씨에게 징역 1년을 선고했다. 범행에 가담한 같은 회사 직원들은 징역형 집행유예와 벌금형 등이 선고됐다. 해당 업체에도 벌금 4억 원이 부과됐다.
이들은 2018년 8월부터 2020년 6월까지 SK하이닉스의 반도체 제조 기술(HKMG)과 세정 레시피 등을 중국 경쟁업체에 빼돌린 혐의로 재판에 넘겨졌다. 검찰은 삼성전자의 자회사인 세메스의 전직 직원으로부터 취득한 초임계 세정장비 도면 등을 활용해 중국 수출용 반도체 세정장비를 개발한 혐의도 적용했다.
재판부는 "국가 핵심기술 관련 공정 기술을 유출했으며 세메스 정보를 몰래 취득해 초임계 세정장비를 개발하는 등 죄질이 좋지 않다"며 대부분의 혐의를 유죄로 인정했다. 다만, "일반 산업 스파이가 (기술을) 해외 유출하는 것과는 궤를 달리하는 부분을 감안했다"고 설명했다. HKMG는 누설 전류를 막고 정전용량을 개선한 차세대 공정으로, D램 반도체의 속도를 빠르게 하면서도 소모 전력을 줄일 수 있는 신기술이다.